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新聞詳情

鉑銠10-鉑熱電偶的脆斷失效方法

來(lái)源:鉑銠10-鉑熱電偶官網(wǎng)作者:鉑銠10-鉑熱電偶廠家網(wǎng)址:http://www.shhz3.cn

描?述:

對(duì)在還原性氣氛使用下的鉑銠10-鉑熱電偶(以下簡(jiǎn)稱鉑銠熱電偶)發(fā)生的偶絲脆斷現(xiàn)象進(jìn)行分析。運(yùn)用金相顯微鏡和電子探針對(duì)鉑銠熱電偶的偶絲焊點(diǎn)及偶絲斷口進(jìn)行檢測(cè)后認(rèn)為:脆斷失效的根本原因在于Si與Pt作用形成Pt5Si2低熔點(diǎn)共晶物,使偶絲因局部熔點(diǎn)降低而熔化,隨之發(fā)生脆斷。

         鉑銠10-鉑熱電偶已經(jīng)有100多年的使用歷史了,目前它仍然是熱電偶中測(cè)溫精度最高,穩(wěn)定性最好,產(chǎn)量最大的一種貴金屬熱電偶。鉑銠熱電偶在氧化性和中性氣氛等沒(méi)有污染介質(zhì)的環(huán)境中其長(zhǎng)期使用溫度上限可以達(dá)到1400℃,其各性能指標(biāo)穩(wěn)定。但是當(dāng)鉑銠10-鉑熱電偶應(yīng)用在H2、CO等還原性氣氛中時(shí),常因偶絲發(fā)生脆斷而造成熱電偶的失效。
1實(shí)驗(yàn)方法
        重慶儀表材料研究所為某冶煉企業(yè)提供的鉑銠熱電偶在使用過(guò)程出現(xiàn)了由于偶絲斷裂造成熱電偶失效的情況,經(jīng)過(guò)和該企業(yè)的技術(shù)人員交流得知,該企業(yè)使用鉑銠熱電偶主要是用于測(cè)量鉛鋅還原過(guò)程中的工作溫度。熱電偶的內(nèi)層保護(hù)管為剛玉保護(hù)管,外層采用碳化硅保護(hù)管。實(shí)驗(yàn)用的脆斷偶絲樣本是從已經(jīng)失效的鉑銠熱電偶上取得,該失效的鉑銠熱電偶使用環(huán)境是在鉛鋅等還原過(guò)程中,取樣部位為:偶絲焊點(diǎn)、偶絲斷口和偶絲表面。使用儀器:OLYMPUS-GX51金相顯微鏡,JCXA-733電子探針。
2結(jié)果與討論
2.1斷裂的熱電偶絲的宏觀表象
        如圖1所示,圖1中的熱電偶絲斷裂成5mm到30mm不等的小節(jié),偶絲表面也失去原有的光潔、平整。同時(shí),可看到偶絲出現(xiàn)了明顯的偶絲熔融粘結(jié)在一起的現(xiàn)象。純鉑的熔點(diǎn)為1769℃,鉑銠10的熔點(diǎn)更是高達(dá)1847℃。而鉛鋅還原反應(yīng)過(guò)程中的溫度是在900~1000℃,遠(yuǎn)低于偶絲的熔點(diǎn)。在相對(duì)于偶絲熔點(diǎn)的較低溫度下,發(fā)生偶絲的熔融應(yīng)該是由于偶絲使用環(huán)境中存在對(duì)偶絲污染的因素造成的。
斷裂偶絲的宏觀表象
2.2斷裂偶絲焊點(diǎn)的表面形貌
        取完好的鉑銠10-鉑熱電偶的偶絲焊點(diǎn),進(jìn)行對(duì)比觀察:好偶絲焊點(diǎn)表面光滑,觀察不到晶界及顆粒相存在,形貌如圖2a所示。斷裂偶絲經(jīng)清洗后放入JCXA-733電子探針試樣室,進(jìn)行表面檢測(cè),在焊點(diǎn)上能觀察到明顯的晶界,表面遍布有顆粒相,并且焊點(diǎn)表面已經(jīng)能夠看見(jiàn)破損開(kāi)裂的情形,其表面形貌如圖2b所示。在圖2c中,焊點(diǎn)表面的晶界已融化,變深變寬。焊點(diǎn)表面分布的顆粒相物質(zhì)也是清晰可見(jiàn),并且在由于晶界融化形成的深槽處,顆粒相物質(zhì)明顯富集。經(jīng)過(guò)對(duì)顆粒相物質(zhì)的定性分析,其主要成分是硅元素。如圖2d中所示。
焊點(diǎn)表面形貌
2.3偶絲斷口及偶絲表面的形貌
        在圖3a中,偶絲斷口表面出現(xiàn)貫穿整個(gè)表面的深凹槽,在圓圈處有一明顯是融化后形成的空穴。從Pt-Si合金相圖可知[1]:低熔點(diǎn)共晶鉑硅化合物Pt5Si2的熔點(diǎn)只有830℃,而剛玉管、碳化硅保護(hù)管等耐火材料就含有SiO2。這些事實(shí)可以認(rèn)為:在這樣的一種高溫、還原性的氣氛下,耐火材料中的SiO2被還原成單質(zhì)Si,Si再與Pt作用,生成低熔點(diǎn)共晶物Pt5Si2,Pt5Si2熔化后在斷口處留下空穴。在圖3b中偶絲表面出現(xiàn)凸起的晶界,偶絲表面也是分布有顆粒相。
偶絲斷口(a)及偶絲表面的形貌
2.4金相檢驗(yàn)
        取偶絲制成金相試樣觀察發(fā)現(xiàn)偶絲破壞主要沿晶界向內(nèi)部擴(kuò)展,形貌如圖4所示。
裂紋沿晶界向內(nèi)破壞形貌
3 結(jié) 論
        (1) 本斷裂 S 型偶絲從表面形貌觀察,該偶絲被嚴(yán)重污染,整個(gè)斷口表面均已形成第二相。
        (2) 經(jīng)電子探針對(duì)第二相分析,該相含有較多為 Si 元素。
        (3) 根據(jù)合金相圖,Si 元素與 Pt 會(huì)形成比純 Pt及鉑銠合金熔點(diǎn)低很多的合金相。
        (4) 如果在偶絲表面覆以優(yōu)質(zhì)的 Al 2 O 3 ·Y 2 O 3涂層(Sol - Gel - Dip - Coating 工藝就可以做到),就可以在還原性氣氛下有效隔絕 Si 與 Pt 的作用,避免鉑銠 10-鉑熱電偶在還原性氣氛中的脆斷失效問(wèn)題 。